超純水系統(tǒng),EDI超純水系統(tǒng), 混床超純水系統(tǒng)出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。

超純水系統(tǒng)超純水制備技術(shù)發(fā)展史：

超純水系統(tǒng)第一代：預(yù)處理 -陽床-陰床-混床

超純水系統(tǒng)第二代：預(yù)處理 -反滲透-混床

超純水系統(tǒng)第三代：預(yù)處理 -反滲透-電去離子（EDI）

陽床-陰床-混床離子交換設(shè)備:

離子交換設(shè)備是利用陰、陽離子交換樹脂的交換吸附性能，去除水中的各種陰、陽離子，達到去離子的目的，離子交換設(shè)備按單臺設(shè)備分類，可分為陰床、陽床、混床。在水處理應(yīng)用中，由陽床、陰床單組或陣列裝置而成，后置混合離子交換器，能得到更高純度的産出水，具有投資節(jié)省、工業(yè)成熟等特點。離子交換設(shè)備是制備高純水的必要設(shè)備，廣泛應(yīng)用于電子、電鍍、鍋爐用水等領(lǐng)域，與RO、EDI設(shè)備組合后水質(zhì)的電阻率可達到18.2MΩ.CM.

反滲透+EDI超純水設(shè)備：

反滲透裝置去除水中的溶解性鹽類物質(zhì)、細菌、熱源等，然后使用連續(xù)電除鹽裝置進行深度脫鹽，使産水電阻率達到15MΩ.cm以上，再采用電子級純水樹脂精混床精除鹽，使産水電阻率達到18.2MΩ.cm，后處理采用紫外線殺菌器和精密過濾器隔絕細菌的二次污染，産水可達到國家電子級水的技術(shù)指標GB 11446.1-1997。

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。

超純水系統(tǒng),EDI超純水系統(tǒng), 混床超純水系統(tǒng)應(yīng)用場合：

☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

☆實驗室和中試車間　　

☆汽車、家電表面拋光處理

☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品